天津理工大学考研研究生导师简介-岳俊杰

本站小编 Free考研网/2019-05-27

导师姓名:岳俊杰
性别:女
人气指数:809

所属院校:天津理工大学
所属院系:环境科学与安全工程学院
职称:副教授
导师类型:
招生专业:安全工程、环境科学与工程、安全科学与工程
研究领域: (1)水污染控制与资源化;环境功能材料研究;(2)阻燃材料研究;
研究领域: (1)水污染控制与资源化;环境功能材料研究;(2)阻燃材料研究; [收起]




通讯方式 :
办公电话:**
通讯地址:yue_junjie@163.com


科研工作 :
(1)氢自养反硝化菌对纳米铁迁移性能的抑制效应及作用机理,国家自然科学基金面上项目,2016.1-2019.12,主持(合作);

(2)三氯乙烯污染地下水矿物-微生物联合修复机制,国家自然科学青年基金项目,2013.1-2015.12,主持(合作);

(3)钢铁硫酸洗废液中亚铁离子供能菌对重金属的吸附机制研究,国家自然科学青年基金项目,2012.1-2014.12,主要完成人;

(4)人工纳米材料生物毒性高通量筛选及安全性评价研究,2009.1-2011.12,国家自然科学青年基金项目,主要完成人;

(5)天津地区建筑废物逆物流分析及资源化利用技术综合评价,天津市自然科学基金项目,2012.10-2015.9,主要完成人;

(6)负载型纳米铁复合材料修复地下水硝酸盐污染的研究,天津市高校科技发展基金,2007.11-2011.5,主持;

(7)喷漆工艺VOCs治理技术的开发研究,横向,2012.5-2013.4,主要完成人;

(8)纳米铁性能测试,横向,2015.7-2015.11,主持;

(9)改性纳米铁性能测试,横向,2015.12-2016.4,主持;

(10)地下水中主要污染物的检测分析,横向,2014.9-2015.8,主持;
(1)岳俊杰, 石召红, 王玉婷, 冯炘, 王薇. 毛细管气相色谱法同时测定三氯乙烯及其脱氯产物[J]. 工业水处理, 2016, 36(1): 86-89 (中文核心)

(2)岳俊杰, 王玉婷, 冯炘, 王薇, 李铁龙. 电气石对脱氯菌降解三氯乙烯的影响[J]. 化工环保, 2015, 35(3): 226-230 (中文核心)

(3)岳俊杰, 尹静, 毕成良, 刘娟. 符合绿色化管理理念的环境化学实验设计, 商场现代化, 2015, 27: 250-252(中文核心)

(4)冯炘, 岳俊杰, 王玉婷, 王薇. 地下水中三氯乙烯污染修复的研究进展[J]. 工业水处理, 2015, 35(7): 5-9 (中文核心)

(5)Junjie Yue, Yuting Wang, Zhaohong Shi, Juan Liu, Xin Feng. A Reactive Nano-Fe/Cu Composite Supported on Expanded Graphite for Nitrate Reduction in Water[C]. Applied Mechanics and Materials, 2014, v 675-677, p 479-482

(6)Junjie Yue, Xiaoqiao Zhu, Yuting Wang, Yuqin Zhang, Li Zhao, Zhaohong Shi. Oxidative Degradation and Kinetics of Trichloroethylene by Thermally Activated Persulfate[C]. Applied Mechanics and Materials, 2014, v 675-677, p 547-550

(7)Junjie Yue, Xinglong Jin, Zhaohui Jin. Study on decolorization of wastewater containing Acid Orange Ⅱby adsorption on expanded graphite, Advanced Materials Research, 2010, (183-185): 873-876(EI)

(8)Yue Junjie, Jin Zhaohui, Li Tielong, Jin Xinglong. Expanded graphite applied in the reactive nano-Fe/Ni composite as a support for reduction of nitrate in waters, 2010 4th International Conference on Bioinformatics and Biomedical Engineering, Chengdu, China, June, 18-20, 2010 [C]. United States: IEEE Computer Society, 2010(EI)




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