武汉科技大学考研研究生导师简介-祝柏林

本站小编 Free考研网/2019-05-27

导师姓名:祝柏林
性别:男
人气指数:48

所属院校:武汉科技大学
所属院系:材料与冶金学院
职称:教授
导师类型:硕导
招生专业:材料科学与工程


通讯方式 :
电子邮件:blzhu@wust.edu.cn


个人简述 :
1994-1998年就读洛阳工学院(现河南科技大学),获金属材料及热处理专业学士学位;1998-2003,就读华中科技大学,获材料学专业博士学位;2003-2005年,入武汉大学物理科学与技术学院,从事博士后研究工作;2005年底,入武汉科技大学,先后任副教授和教授,其中2006-2008年前往香港理工大学开展合作研究。到目前为止,主持和主要参与完成了包括国家自然科学基金、中国博士后科学基金、香港研究资助局(RGC)、国家重点实验室、省科技厅等资助科研项目10项。主持并参与完成了横向课题3项。共发表了SCI收录的论文50余篇,H指数21。《Thin Solid Films》、《Composites Part B》、《Applied Surface Science》《Journal of Physics D》、《无机材料学报》、《材料导报》等杂志审稿人。国家自然科学基金、武汉市科技局、广州市科技局项目评审人。目前主要从事光电功能薄膜材料及有机-无机复合材料的研究,同时从事《晶体学基础》、《薄膜材料》、《材料物理性能》、《电子材料》、《功能材料》、《复合材料》等课程的教学工作。

科研工作 :
近五年发表的论文:[24] 谢挺,祝柏林*,杨玉婷,张俊峰,龙晓阳,吴隽, 反应溅射法制备高透明导电ZnO薄膜的研究, 人工晶体学报,2016,45(3):711-717[23]J. Wu*, T. T. Li, T. Qi, B. L. Zhu, W. J. Wang, D. Wei, C. S. Xie, The microstructure, stoichiometric ratio and room temperature ferromagnetic properties of V-doped ZnO films deposited at different substrate temperatures, J Mater Sci: Mater Electron, 2016,27(1):163-170[22] 龚甜,吴隽,李涛涛 ,龙晓阳,祝柏林,祁婷, 负偏压对六方氮化硼薄膜沉积特性的影响, 武汉科技大学学报,2015,38(5):351-356[21]B. L. Zhu*, J. Wang, H. Zheng, J. Ma, J. Wu, R. Wu,Investigation of thermal conductivity and dielectric properties of LDPE-matrix composites filled with hybrid filler of hollow glass microspheres and nitride particles,Composites Part B: Engineering, 2015, 69: 496-506[20] B. L. Zhu*, M. Xie, J. Wang, X. W. Shi, J. Wu, D. W. Zeng, C. S. Xie, Comparative study on effects of H2 flux on structure and properties of Al-doped ZnO films by RF sputtering in Ar+H2 ambient at two substrate temperatures, Ceramics International, 2014, 40(8): 12093-12104[19] B. L. Zhu*, H. Zheng, J. Wang, J. Ma, J. Wu, R. Wu, Tailoring of thermal and dielectric properties of LDPE-matrix composites by the volume fraction, density, and surface modification of hollow glass microsphere filler, Composites Part B: Engineering, 2014, 58: 91-102 [18]吕坤,祝柏林*, 李珂,胡文超,谢铭,吴隽,氢气与Cu中间层对GZO薄膜光电性能的影响, 无机材料学报,2014, 29(5): 493-497[17]秦卓,朱军,吴隽*,张莉,龚甜,从善海,祝柏林, 高硅钢织构的研究现状及进展, 材料导报,2014,28(11):79-83 [16] B. L. Zhu*, K. Lü, J. Wang, T. T. Li, J. Wu, D. W. Zeng, C. S. Xie, Characteristics of Al-doped ZnO thin films prepared in Ar+H2 atmosphere and their vacuum annealing behavior, Journal of Vacuum Science and Technology A, 2013, 31(6): 61513-61521 [15] B. L. Zhu*, K. Li, J. Wang, J. Wu, D. W. Zeng, C. S. Xie, Modification of structure and properties of AZO thin film by introducing H2 in sputtering atmosphere at low substrate temperature, Superlattices and Microstructures, 2013, 64: 460-469,[14] B. L. Zhu*, J. Wang, J. Ma, J. Wu, K. C. Yung, C. S. Xie, Preparation and properties of aluminum nitride-filled epoxy composites: Effect of filler characteristics and composite processing conditions, Journal of Applied Polymer Science, 2013, 127 (5): 3456-3466[13]朱胜君,王俊,李念,李涛涛,吴隽,祝柏林*, H2/(H2+Ar)流量比对AZO薄膜结构及光电性能的影响, 武汉科技大学学报, 2012, 35(1): 56-60[12] B. L. Zhu*, J. Ma, J. Wang, J. Wu, D. S. Peng, Thermal, dielectric, and compressive properties of hollow glass microsphere filled epoxy-matrix composites, Journal of Reinforced Plastics and Composites, 2012, 31(19) 1311-1326[11] B. L. Zhu*, J. Wang, S. J. Zhu, J. Wu, D. W. Zeng, C. S. Xie, Optimization of sputtering parameters for deposition of Al-doped ZnO films by rf magnetron sputtering in Ar+H2 ambient at room temperature, Thin Solid Films, 2012, 520 (23): 6963-6969[10] B. L. Zhu*, J. Wang, S. J. Zhu, J. Wu, D. W. Zeng, C. S. Xie, Thickness study of AZO films by RF sputtering in Ar+H2 atmosphere at room temperature, Physica Status Solidi A, 2012, 209(7): 1251-1258 [9] B. L. Zhu*, J. Wang, S. J. Zhu, J. Wu, D. W. Zeng, C. S. Xie, Investigation of structural, electrical, and optical properties for Al-doped ZnO films deposited at different substrate temperatures and H2 ratios, Journal of The Electrochemical Society, 2012, 159 (5):H536-H544 [8]J. Wu*, T. Qi, T. T. Li, Q. W. Qin, G. Q. Li, B. L. Zhu, Z. D. Xiang, C. S. Xie, The AC impedance and variable temperature dielectric spectroscopic analysis of MnO2 doped and un-doped ZnO-V2O5 ceramics, Journal of Materials Science: Materials in Electronics, 2012, 23 (6):1143-1150. [7] J. Wu*, T. T. Li, T. Qi, Q. W. Qin, G. Q. Li, B. L. Zhu, R. Wu, C. S. Xie, The influence of dopants on the electrical properties of ZnO-V2O5 varistors deduced from ac impedance and variable temperature dielectric spectroscopy, Journal of Electronic Materials, 2012, 41(7): 1970-1977 [6] L. T. Kang, Y. F. Gao*, H. J. Luo*, J. Wang, B. L. Zhu, Z. T. Zhang, J. Du, M. Kanehira, Y. Z. 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Xie,Influences of hydrogen introduction on structure and properties of ZnO thin films during sputtering and post-annealing, Thin Solid Films, 2011, 519(11): 3809-3815 [1] B. L. Zhu*, S.J. Zhu, X.Z. Zhao, F.H. Su, G.H. Li, X.G. Wu, J.Wu,Characteristics of undoped and Sb-doped ZnO thin films prepared in different atmospheres by pulsed laser deposition, Physica Status Solidi A, 2011, 208(4): 843-850


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